고순도 텅스텐-몰리브덴 아크 챔버 이온 인플레네이션 요소

고순도 텅스텐과 몰리브덴 아크 챔버 이온 인플레네이션 요소

자사 제품 :

챔버 (텅스텐, 몰리브덴과 불순물)

필라멘트 (텅스텐과 텅스텐 합금)

아크 슬릿 (텅스텐, 몰리브덴과 불순물)

홀더들 (텅스텐, 몰리브덴과 불순물)

음극 (텅스텐, 몰리브덴과 불순물)

예비품 (텅스텐, 몰리브덴과 불순물)

우리는 고급 품질, 정밀 기계화 몰리브덴을 제공하고 이온 주입, 유기 금속 CVD 법, CVD, PVD와 MBE 도구를 포함하여 전위 처리 장비를 위한 텅스텐 성분은 반도체의 생산에 사용했습니다. 엘메트의 몰리브덴과 텅스텐 재질의 제조 경험과 전문과 지식은 우리가 당신의 엄격한 내역을 만족시키는 정밀 기계화 부품과 조립을 제공할 수 있게 합니다.

애플리케이션 :

반도체 이온 주입은 재료 표면 변경의 신기술입니다. 그것은 넓게 반도체 물질의 도핑, 금속의 표면변형, 도자기류, 폴리머 기타 등등에서 사용되었습니다. 그것은 동시대 제작 대규모 집적 회로에 필요 기술입니다.

이온 주입은 이온 빔이 물질에서 원자 또는 분자와의 일련의 물리적 화학적 상호작용을 할 물질 안으로 100keV의 에너지 질서와 이온 빔의 주입입니다. 점진적으로 그들의 에너지를 잃고, 마침내 물질에서 멈추고 그러므로 물질의 표면 성질을 최적화하거나, 물질에게 약간의 새로운 우수한 성능을 주면서, 입사 이온은 구성, 구조의 변화와 물질의 표면의 특성을 일으킵니다.

물질 특성 :

이온 주입에서 사용된 산후이 텅스텐과 몰리브덴 성분은 그들이 복잡한 형태와 아크 챔버 요소의 처리에 적합하다는 것을 보증하기 위해 고순도, 좋은 역학적 성질을 가집니다.

고순도 텅스텐과 몰리브덴 아크 챔버는 반도체 칩 수율을 위한 기본 보장입니다. 부품은 매우 기계 관리 주파수를 감소시키고 고객의 생산력을 확보한 산후이 고성능 이온 소스 헤드 텅스텐과 몰리브덴이 고객들을 위한 최상의 선택입니다.

수입된 정확성 기계 가공 장비의 전체 세트로, 품질 관리의 원칙과 진보적 외국 기술을 결합시키는 것으로서 텅스텐, 몰리브덴, 탄탈과 니오븀과 같은 자체 생산 물질과 함께, 산후이는 고객 요구 사항에 따라 고정밀과 고품질 제품을 설계하고 생산하고 처리할 수 있습니다.

성공적 사안 :

산후이는 내화 재료를 처리하기 위한 완전한 장비를 갖추고 있고, 고객들에게 텅스텐, 몰리브덴, 탄탈, 니오븀과 그들의 불순물과 같은 내화 금속 소재로부터 만들어진 플레이트, 시트, 바, 연료봉과 복합 성분을 제공할 수 있습니다. 산후이는 텅스텐을 제공할 수 있고 몰리브덴 제품이 광범위 광선, 중간 빔과 활기 찬 이온 소스들에 사용했습니다 ; 텅스텐 고에너지 이온 소스 구성 요소, 텅스텐 또는 몰리브덴 광범위 광선 이온 주입부와 몰리브덴 매체 빔 이온 소스 부품을 제공할 수 있습니다. 제품은 대만, 미국과 다른 나라와 지역에서 선두 제조업체들에게 공급되었습니다.