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이름: | 몰리브덴 / 텅스텐 이온 이식 예비품 | 애플리케이션: | 반도체, 이온 주입 |
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형태: | 그림에 따르면 | 비중: | 10.2g/cm3 |
융해점: | 2610C | 청정: | 99.95% |
재료: | 몰리브덴, 텅스텐, 몰리브덴 / 텅스텐 | 표면: | 기계화되는 땅 |
하이 라이트: | 반도체 텅스텐-몰리브덴 정밀 부분,이온 이식된 텅스텐-몰리브덴 정밀 부분,텅스텐-몰리브덴 이온 소스 어셈블리 |
공급 반도체 이온은 텅스텐-몰리브덴 정밀 부분 이온 소스 어셈블리를 주입시켰습니다
이온 주입은 반도체 기판 혼입물 첨가와 변경을 위한 공통 프로세스입니다. 전자로 도핑될 음란을 이온화시키고 반도체 웨이퍼와 가속화하고 부딪치세요. 텅스텐과 몰리브덴은 보통 이온 주입 부분을 만드는데 사용됩니다.
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적용 가능한 산업 : 이온 주입, 전기 광원, 고온 가열 장치, 전극, 기타 등등
텅스텐, 몰리브덴과 그들의 불순물은 그들의 좋은 열전도율, 전기 전도, 열팽창의 낮은 계수, 고온 강도, 저기압과 다른 특성 때문에 전자 재료가 되었습니다.
그것은 전력 장비 제조, 금속 재료 처리 산업, 유리 제조업, 고온 도가니 구조적 부품 제조, 항공우주에 쓸 중요한 재료고 산업 적용입니다.
애플리케이션 : 반도체를 위한 몰리브덴 이온 임플랜터 예비품
1. 이온 주입을 위한 대부분의 몰리브덴 부품은 반도체 산업에서 사용됩니다 ;
2.우리는 고밀도, 순도와 정확도와 이온 주입과 호모지니우스 내부 구조물을 위한 몰리브덴 부품을 생산합니다 ;
3. 이온 주입을 위한 우리의 몰리브덴 일부는 적당한 빔 현재 고취자와 특설보 현재 고취자에 적합합니다 ;
4. 이온 주입을 위한 몰리브덴 부품은 고객 그림에 따라 만들어집니다.
담당자: Lisa Ma
전화 번호: 86-15036139126
팩스: 86-371-66364729