99.95% ASTM B387 몰리브덴 가공 부품 이온 주입 사출 성형

고순도 99.95% ASTM B3870 몰리브덴 부품 이온 주입 사출 성형 반도체

애플리케이션:

반도체 이온 주입은 재료 표면 개질의 새로운 기술입니다.그것은 반도체 재료의 도핑, 금속, 세라믹, 폴리머 등의 표면 개질에 널리 사용되었습니다. 현대 제조 대규모 집적 회로에서 필요한 기술입니다.

이온 주입은 100keV의 에너지 차수의 이온 빔을 재료에 주입하는 것입니다. 이온 빔은 재료의 원자 또는 분자와 일련의 물리적 및 화학적 상호작용을 하게 됩니다.입사 이온은 점차 에너지를 잃고 마침내 재료에서 멈추고 재료 표면의 구성, 구조 및 특성을 변화시켜 재료의 표면 특성을 최적화하거나 재료에 새로운 우수한 성능을 부여합니다.

재료 속성:

이온 주입에 사용되는 Sanhui 텅스텐 및 몰리브덴 구성 요소는 복잡한 모양의 아크 챔버 구성 요소 처리에 적합하도록 고순도, 우수한 기계적 특성을 가지고 있습니다.

고순도 텅스텐 및 몰리브덴 아크 챔버는 반도체 칩 수율의 기본 보장입니다.Sanhui 고성능 이온 소스 헤드 텅스텐 및 몰리브덴 부품은 기계 유지 보수 빈도를 크게 줄이고 고객의 생산 능력을 보장하므로 고객에게 최고의 선택입니다.

품질 관리의 기초로 텅스텐, 몰리브덴, 탄탈륨 및 니오븀과 같은 자체 생산 재료를 사용하고 고급 외국 기술을 결합하여 Sanhui는 고정밀 및 고정밀을 설계, 생산 및 가공할 수 있습니다. 고객 요구 사항에 따라 품질의 제품.

성공 사례:

Sanhui는 내화 재료 처리를 위한 완전한 장비를 갖추고 있으며 텅스텐, 몰리브덴, 탄탈륨, 니오븀 및 그 합금과 같은 내화 금속 재료로 만든 판, 시트, 막대, 막대 및 복잡한 구성 요소를 고객에게 제공할 수 있습니다.Sanhui는 대형 빔, 중간 빔 및 고에너지 이온 소스에 사용되는 텅스텐 및 몰리브덴 제품을 제공할 수 있습니다.텅스텐 고에너지 이온 소스 구성 요소, 텅스텐 또는 몰리브덴 대형 빔 이온 주입 부품 및 몰리브덴 중간 빔 이온 소스 구성 요소를 제공할 수 있습니다.제품은 대만, 미국 및 기타 국가 및 지역의 주요 제조업체에 공급되었습니다.