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제품 소개몰리브덴 스퍼터 표적

광전자와 반도체를 위한 10.2g/Cm3 몰리브덴 목표

인증
중국 Zhengzhou Sanhui Refractory Metal Co., Ltd. 인증
중국 Zhengzhou Sanhui Refractory Metal Co., Ltd. 인증
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광전자와 반도체를 위한 10.2g/Cm3 몰리브덴 목표

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큰 이미지 :  광전자와 반도체를 위한 10.2g/Cm3 몰리브덴 목표

제품 상세 정보:
원래 장소: 허난, 중국
브랜드 이름: Sanhui
인증: ISO 9001:2008
모델 번호: Mo1
결제 및 배송 조건:
최소 주문 수량: 10 PC
가격: USD 50-80 per pc
포장 세부 사항: 합판 상자
배달 시간: 15-20 일
지불 조건: D/A, D/P, T/T, 서부 동맹
공급 능력: 달 당 5000개 부분
상세 제품 설명
형태: 원, 사각 등급: 순수한 몸리브덴 또는 Mo 합금
표면 처리: 닦은 /ground 서비스: 깊은 곳에서 가공
애플리케이션: 진공 코팅, 이온 침을 튀기기 허용한도: +-0.1mm 두께
상태: 어닐링되거나 풀림처리하지 않아서 진공청소기로 청소하세요 배달 시간: 10-25 일로 일합니다
하이 라이트:

10.2g/Cm3 몰리브덴 목표

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광전자 몰리브덴 목표

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반도체 몰리브덴 파이프

광전자와 반도체를 위한 몰리브덴 스퍼터 표적

 

타겟을 스퍼터링시키는 몰리브덴에 대한 도입

상품 이름 순도 비중 서피스 처리
볼리브덴 타겟 99.97% 10.2g/cm3 굴리기

 

2 종류의 몰리브덴 스퍼터 표적이 있습니다 :몰리브덴 판형 타깃과 몰리브덴 회전 타겟.

몰리브덴 목표는 1 종류의 산업 자재이며, 그것이 넓게 도전 유리, STN / TN / TFT-LCD, 광학유리, 이온 코팅과 다른 산업에서 사용됩니다. 그것은 모든 평탄화 코팅과 회전식 코팅 시스템에 적합합니다.

 

몰리브덴 스퍼터 표적의 애플리케이션 :

몰리브덴 스퍼터 표적은 진공증착 산업, 이온 스퍼터링, 평판 디스플레이 산업과 광 기전 공업에서 적용될 수 있습니다. 몰리브덴 스퍼터 표적은 반도체의 박막형 태양전지 전극, 배선 물질과 방어층 소재로서 사용될 수 있습니다.

 

고융점, 고전도성, 좋은 부식 저항성과 다른 특성과 그것의 특정한 임피던스와 멤브레인 응력으로, 몰리브덴은 크롬의 절반 일 뿐입니다. 게다가 몰리브덴이 환경적으로 친소재여서 환경 오염에 대해 걱정하기 위한 어떤 필요가 없습니다. 그러므로, 몰리브덴은 평면 디스플레이 장치를 위해 발탁된 스퍼터 표적 중 하나가 되었습니다. 전문가들에 따르면 몰리브덴이 또한 매우 밝기, 대비, 색깔과 LCD의 다른 성능을 향상시키고 그것의 서비스 수명을 연장할 수 있다는 것이라고 매우 중요합니다.

 

TFT-LCD 몰리브덴 목표에 대해, 우리는 구리 베이스판과 큰 사이즈 몰리브덴 목표에 대해 진공 용접을 제공할 수 있습니다.

 

 

몰리브덴 목표의 특성과 생산 :

몰리브덴 스퍼터 표적은 고융점, 높은 전기 전도도, 빛나는 표면, 더 좋은 부식 저항성과 우수한 환경 보호와 같은 몰리브덴의 우수한 특성을 가집니다.

순도 (%)

비중 (g/cm3)

상술 (밀리미터)

>=99.95

>=9.9

라운드 대상 크기 : (60-100) Dia *(42-55) 폭

 

시트 대상 크기 : (8-16) 두께 * (80-200) 폭 길이

튜브 대상 크기 : (70-90.5) OD * (7-20) 두께 길이

 

제품 수집

광전자와 반도체를 위한 10.2g/Cm3 몰리브덴 목표 0


 

 

연락처 세부 사항
Zhengzhou Sanhui Refractory Metal Co., Ltd.

담당자: Nikki Liu

전화 번호: 86-13783553056

회사에 직접 문의 보내기 (0 / 3000)

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